低品位次生硫化铜矿的细菌浸出研究.pdf

低品位次生硫化铜矿的细菌浸出研究 路殿坤蒋开喜“王春“刘大星“ （东北大学， 沈阳； “北京矿冶研究总院， 北京4“， -;46B“ （ ;CDEA5FED6 264GDF4EH，IA6H56B /’0 型电位/ 计测定。采用 A6BAC 公司生产的 D.EA6FDC 型光学显微镜对部分原矿 和浸出渣进行了光学显微图像分析。 实验结果与讨论 879浓度对铜、 铁浸出的影响 在硫酸浓度为 *“*GH F 的条件下， 改变 34’ 5的 加入量， 考察 I 内铜浸出率与铁加入量之间的关 系。根据通常细菌培养中 34 5浓度一般为 GH F， 为便于比较， 选择 34’ 5的初始加入量分别为J、 J、 J*’、 *12*/0. .*056 10/* 5-/0/ -7 5-*1 4-.*056 ,*1’ /2* 的铁量仅为 *135 6， 远低于化学浸出所确定的最 佳加铁量的下限浓度 （*1335 6） ， 因此在铜浸出时 缺乏足够的氧化剂来确保比较稳定的传质过程。而 在3/ 接种量下随细菌进入溶液的铁量为 *10 5 6， 与最佳加铁量相近， 所以其浸出速率常数较 高， 因此足够的铁量对于铜的浸出十分重要， 但是再 继续增加铁的浓度时作用不大。另一方面， 在相同 的时间浸出速率常数相差的最大值出现在前 4,， 而在浸出后期浸出速度常数差距基本恒定， 对比图 中的氧化还原电位可知， 在前 4, 内， 二者的电位 差在 4* 7 0*89 左右， 而 3, 后二者的电位差在 . 7 *89， 其差距比 4, 之前小。尽管如此， 仍可发 现其速率常数的差值与电位的差值联系密切， 电位 差越大， 其速率常数差值也越大， 说明浸出液的氧化 还原电位对于铜的浸出具有非常重要的意义。 8次生硫化铜矿物的浸出过程分析 从图 中单批次浸出速度常数的变化规律也可 看出， 随着浸出过程的进行， 浸出速度常数逐渐降 低， 这对于具有单一氧化分解电位的矿物来说是不 可能的。因此， 次生硫化矿 （辉铜矿、 蓝辉铜矿和铜 蓝） 的氧化浸出过程可能产生了不同的中间产物， 而 且具有越来越高的氧化分解电位， 因此其浸出难度 逐渐增加。但是， 随着浸出时间的延长， 浸出反应速 率常数逐渐趋于稳定， 在浸出液中具有足够的 ; ， 说明在浸出后期铜的矿物形式趋于单一。 为了探明浸出过程中铜矿物的变化过程， 对部 分原矿样和浸出渣进行了光学显微图像研究， 结果 发现， 在浸出过程中， 次生硫化铜矿物中的辉铜矿在 浸出一段时间后消失， 浸渣中大量存在的是蓝辉铜 矿， 继续浸出时逐渐向铜蓝转化。将这些证据与浸 -有色金属 （冶炼部分） ** 年 . 期 万方数据 出速率常数逐渐降低的趋势联系起来， 可以推断， 辉 铜矿和蓝辉铜矿的浸出是逐步完成的， 中间经历了 一系列化合物的生成和溶解反应。 从其他研究者对辉铜矿所作的电化学研究结果 来看， 辉铜矿在氧化浸出过程中可能形成的中间产 物有 “1 .存在时， 溶液氧化还原电位的提高对于铜的 浸出至关重要。在浸出后期， 铜蓝浸出所需的较高 的氧化还原电位限制了铜浸出速率的提高。因此要 寻找高效氧化浸铜途径， 要在如下两个方面进行研 究。首先要为细菌的生长及 ;1 .的再生创造良好 的环境， 以便在浸出液中维持较高的氧化还原电位。 另一方面， 要寻找降低矿物浸出所需电位的方法， 从 方程式 （,） 5 （） 中可以看出， 铜离子活度的降低会 使浸出所需的电位下降， 因此在浸出过程中加入能 与铜形成络合物的试剂可以大大降低铜离子的活 度， 从而降低浸铜所需电位， 提高浸铜速度。3的 引入应该能够起到这种作用， 但关键是要驯化或分 离出能够耐受较高 3ABC D1EBC， 3FG1“H IBH 231CAJC1HBEAK JL BJGCB33“ME L1AAJJNB） ** ［］傅崇说 有色冶金原理 ［R］ 北京 冶金工业出版社， * ［0］T UJJOE， V WJJF， X WJ“F4 2 Y QV ZB4AHE LJA EG31 FO H1EG31 QE1E BF 1 “ Y ’ Y V,[ EKE1H［］ \F1AFBJF3 J“AF3 JL RBF1A3 DAJC1EEBF4 *（,/） “ “ “ “ / 致作者 本刊目前已扩版到大 开出版， 欢迎广大读者涌跃为本刊投稿， 来稿请寄 有色金属（冶炼部分） 编辑部收， 并在稿件上附注第一作者简历及联系电话， 以 便联系。同时请与文字稿一起将软盘寄来， 本刊欢迎广大作用用 1 Y HB3 投稿。 以加快稿件的处理速度。 有色金属 （冶炼部分） ,//, 年 期 万方数据