氮气分压对Cu3N薄膜性质的影响.pdf

第3 7 卷第2 期中国矿业大学学报 V 0 1 ．3 7N o ．2 2 0 0 8 年3 月J o u r n a lo fC h i n aU n i v e r s i t yo fM i n i n g T e c h n o l o g yM a r ．2 0 0 8 氮气分压对C u 3N 薄膜性质的影响 袁晓梅1 ，闫鹏勋2 ，孔凡成1 ，方 1 ．徐州空军学院航空弹药系，江苏 2 ．兰州大学等离子体与金属材料研究所， 延平1 ，郑晓慧1 徐州2 2 1 0 0 0 ； 甘肃兰州7 3 0 0 0 0 摘要采用反应射频磁控溅射法，通过改变混合气体 N 。 A r 中氮气分压来改变元素的沉积能 量和密度，在玻璃基底上制备出了表面光滑、致密的氮化铜 C u 。N 薄膜，研究了不同氮气分压对 C u 。N 薄膜的择优生长取向和晶粒尺寸的影响．结果表明随着氮气分压的增加，C u 。N 薄膜由沿 1 1 1 晶面择优生长转变为沿 1 0 0 晶面择优生长，晶粒尺寸变小，表面均方根粗糙度和光学带隙 E 呲增大；薄膜在3 0 0 ℃的条件下会完全分解成铜和氮气；薄膜表面的C u 元素以 1 价形式存 在，C u 2 p 3 ／2 ，C u 2 p l ／z 和N l s 峰分别位于9 3 2 ．7 ，9 5 2 ．7 和3 9 7 ．3e V ． 关键词氮化铜薄膜；射频磁控溅射；表面形貌；择优取向 中图分类号O4 8 4 文献标识码A 文章编号1 0 0 0 1 9 6 4 2 0 0 8 0 2 一0 2 7 6 一0 5 I n f l u e n c eo fN i t r o g e nP a r t i a lP r e s s u r eo nt h e P r o p e r t i e so fC u 3N F i l m s Y U A NX i a o - m e i l ，Y A NP e n g - x u n 2 ，K O N GF a n - c h e n 9 1 ， F A N GY a n - p i n 9 1 ，Z H E N GX i a o h u i l 1 ．D e p a r t m e n to fA v i a t i o nA m m u n i t i o n ，X u z h o uA i rF o r c eC o l l e g e ，X u z h o u ，J i a n g s u2 2 1 0 0 0 ，C h i n a ； 2 ．I n s t i t u t ef o rP l a s m a ＆M e t a lM a t e r i a l s ，L a n z h o uU n i v e r s i t y ，L a n z h o u ，G a n s u7 3 0 0 0 0 ，C h i n a A b s t r a c t C o p p e rn i t r i d e C u 3N t h i nf i l m sd e p o s i t e do ng l a s ss u b s t r a t e sw e r es u c c e s s f u l l yp r e p a r e du s i n gar e a c t i v er a d i o f r e q u e n c y R F m a g n e t r o ns p u t t e r i n gb yc h a n g i n gN i t r o g e np a r t i a l p r e s s u r ei nam i x t u r eg a so fn i t r o g e na n da r g o n ．T h ei n f l u e n c eo fn i t r o g e np a r t i a lp r e s s u r eo n t h ep r e f e r e n t i a lc r y s t a l l i n eo r i e n t a t i o na n dt h em e a nc r y s t a l l i n eg r a i n ss i z ew e r es t u d i e d ．T h e r e s u l t ss h o wt h a tt h ep r e f e r e n t i a lo r i e n t a t i o no fC u 3Nf i l m sc h a n g e sf r o m 111 t o 10 0 a n d t h eg r a i ns i z eg r a d u a l l yd e c r e a s ew i t ht h ei n c r e a s i n go fN zp a r t i a lp r e s s u r e ．A l lt h eC u 3Nf i l m s d e p o s i t e dh a v es m o o t hs u r f a c e sw i t hd e n s ea n dc o n t i n u o u sm i c r o s t r u c t u r e ．T h et h e r m a ld e e o m p o s i t i o no ft h eC u 3Nf i l mw i l lt a k ep l a c ea ta b o u t3 0 0 ℃i nv a c u u m ．T h eb i n d i n ge n e r g yo f C u 2 p 3 ／2 ，C u 2 p l ／2a n dN l si nC u 3Nc o m p o u n dw e r el o c a t e da t9 3 2 。7 ，9 5 2 ．7a n d3 9 7 。3e V ，r e s p e c t i v e l y ． K e yw o r d s c o p p e rn i t r i d ef i l m ；R Fm a g n e t r o ns p u t t e r i n g ；s u r f a c em o r p h o l o g y ；p r e f e r e n t i a lO r i e n t a t i o n 氮化铜 C u 。N 是一种具有较低的热分解温 度，较高的电阻率，对红外光和可见光的反射率与 C u 单质有明显差别的无毒廉价材料，可以应用于 光存储器件和高速集成电路中阻4 。，近年来已得到 广泛研究．C u 。N 为具有立方反R e O 。型晶体结构 的3 d 型过渡金属氮化物，其晶格常数口一0 ．3 8 15 收稿日期2 0 0 7 0 3 1 l 基金项目甘肃省自然科学基金重点项目 Z S 0 2 1 一A 2 5 0 2 2 一C 作者简介袁晓梅 1 9 7 9 一 ，女，江苏省东台市人，助教，硕士，从事纳米材料方面的研究． E - m a i l y u a n x m 0 3 1 6 3 ．c o r nT e l 0 5 1 6 8 2 3 7 1 7 0 4 万方数据 第2 期 袁晓梅等氮气分压对C u 。N 薄膜性质的影响2 7 7 n m ，由于晶体中的铜原子并没有占据 1 1 1 面的 密堆积位置，因此其它原子 如铜、钯或碱金属原 子 就有可能填充到晶体中的空隙空位，这将导致 C u 。N 的电学和光学性质发生显著的变化[ 5 ] ． 到目前为止，国际上对氮化铜薄膜的物理及化 学性质的讨论仍存在很大分歧，且国内有关氮化铜 薄膜的研究报道也很少，因此开展这方面的研究工 作是非常必要的． 有多种制备技术可以获得氮化铜薄膜，如磁控 溅射法[ 1 ’3 j - l o ] ，离子束辅助沉积法‘引，直流辉光放 电法u 1 1 ，柱状靶多弧直流溅射法[ 1 2 ] 等．其中，磁控 溅射由于它的高效性和简便性成为制备氮化铜薄 膜的常用方法．本文采用反应射频磁控溅射法不同 氮气分压条件下在玻璃衬底上成功制备出了氮化 铜薄膜，并采用多种测试手段观察和研究了薄膜的 微观结构、晶粒大小、形貌、热稳定性及光学能隙等 基本特性． 1 实验 1 ．1 薄膜制备 实验中所用的溅射靶材为铜靶，其纯度为 9 9 ．9 9 9 ％，直径1 0 0m m ，厚度5m m ．实验前分别 用丙酮、酒精对玻璃基底进行超声清洗1 0m i n ，然 后烘干放入真空室，基底和靶之间的距离设定为 6 0m m ，基底温度保持在1 5 0 ℃．反应沉积过程中， 氩气为溅射气体，氮气为反应气体，气体纯度均为 9 9 ．9 9 9 ％，其流量分别使用质量流量计控制，总气 体流量为3 0m L ／m i n ．溅射本底真空度1x1 0 q P a ，充入气体后的气压保持在1P a ，溅射功率1 0 0 W ，沉积时间均为3h ．通过改变氮气和氩气比例制 备了一系列样品，氮气分压 P N 分别为0 ．2 ，0 ．4 ， 0 ．8 ，1P a ． 1 ．2 薄膜表征 采用X 射线衍射仅 X R D 表征薄膜的晶体结 构，并用S c h e r r e r 公式估算出了晶粒尺寸；用原子 力显微镜 A F M 观察薄膜表面形貌及表面均方根 粗糙度；用X 射线光电子能谱仪 X P S 分析薄膜 表面的元素成分；用紫外一可见分光光度计测鼍薄 膜光学特性． 2 实验结果及讨论 2 。1 不同氮气分压对薄膜结构的影响 图1 为在不同氮气分压 P N 下所沉积的 C u 。N 薄膜的X 射线衍射谱．由图中可观察出，氮 气分压为0 ．2P a 时，薄膜出现强度最强的C u 。N 1 1 1 晶面的衍射峰和较弱的C u 。N 1 l o 衍射峰 及跨骑在由玻璃基底导致的非晶包上的微弱 C u 。N 1 0 0 衍射峰；氮气分压增加到0 ．4P a 时， C u s N 1 1 0 晶面的衍射峰消失，C u 。N 1 0 0 和 1 1 1 晶面的衍射峰强相差不多；当氮气分压大于 0 ．8P a 时，非晶包逐渐消失，薄膜沿C u 。N 1 0 0 晶 面的衍射峰强度逐渐增强． ∽ 山 望 划 氍 1 02 03 04 05 06 07 08 0 衍射角／ o 图1 不同氮气分压下C u 3 N 薄膜的X R D 谱 F i g ．1 X R Dp a t t e r n so ft h ef i l m sd e p o s i t e da t d i f f e r e n tn i t r o g e np a r t i a lp r e s s u r e s 结果表明，混合工作气体气氛中氮气分压对薄 膜的择优生长取向有很大的影响，即随着氮气分压 的增大，薄膜由沿C u 。N 1 1 1 晶面择优生长转变 为沿C u 。N 1 0 0 晶面择优生长．薄膜的择优生长 取向受到薄膜的生长速率、化学计量比和反应元素 能量等的影响，在固定的温度和不同氮气流量下， 这些影响因素均由参与薄膜生长的铜和氮原子的 密度和动能决定．铜原子直接来自于靶材并具有相 对高的动能，动能值正比于靶和基底间的电势差． 低氮气分压下，到达基底并具有高能的氮原子密度 较小不足以形成富氮的 1 0 0 面，因而富铜的 1 1 1 面有相对较高的生长速度；而高氮气分压下氮原子 密度增加，到达基底的氮原子具有适当的能量与铜 原子发生反应，从而产生大量C u - N 键而沿富氮的 1 0 0 晶面择优生长．因此，增加氮气分压会促使薄 膜沿C u 。N 1 0 0 晶面择优生长【3 ] ． 利用S c h e r r e r 公式[ 1 3 1 估算出晶粒大小，其与 氮气分压的关系如表1 所示．随着氮气分压的减 小，晶粒的平均尺寸从7 ．5 2n m 逐渐增加到2 0 ．8 6 n m ．晶粒的大小主要取决于晶粒的生长率和成核 率之间的竞争．本实验中随着氮气分压的减小，氩 气分压相应增大，这将引起铜原子溅射率的增加， 因此氮原子的数量不足以与溅射出来的铜原子发 生反应，铜原子参与晶粒生长而不易成核，所以低 氮气分压下晶粒尺寸相对较大． 万方数据 2 7 8中国矿业大学学报 第3 7 卷 表1不同氮气分压下制备的C u s N 薄膜 平均晶粒尺寸计算值和光学带隙 T a b l e1P r e f e r e n t i a io r i e n t a t i o n - m e a ng r a i ns i z e ．． a n do p t i c a lb a n dg a po ft h eC u 3Nf i l m s 样品号 氮气分压／P a h k l 平均晶粒尺寸／n m 光学带隙／e V 111 0 07 ．5 21 ．Z 5 20 ．81 0 01 6 ．7 51 ．2 1 3 0 ．4 1 0 0 1 9 ．7 41 ．1 6 40 ．21 1 12 0 ．8 61 ．1 】 2 ．2 薄膜表面形貌特征 图2 是较高氮气分压 P N 一1P a 和较低氮气 分压 P N 一0 ．2P a 条件下所得C u 。N 薄膜的二维 和三维原子力显微图像．薄膜均由分布均匀的纳米 颗粒所组成，表面非常光滑，结构连续致密，晶界清 晰，几乎看不到缺陷．图2 a 中薄膜表面颗粒呈锥状 结构，而图2 b 中薄膜表面颗粒呈圆球状结构，并且 有少量细小颗粒开始团聚而成较大的颗粒．原子力 显微镜给出的图2 a ，b 两者表面均方根粗糙度R 一 分别为2 ．2 6 8 ，1 ．6 3 5n m ． a 较高氮气分压下 P w IP a C u ，N 平面和三维A F M 图像 b 较低氮气分压下 P N - - 0 ．2P a C u 3 N 平面和三维A F M 图像 图2 较高氮气分压和较低氮气分压下 C u a N 的平面和三维A F M 图像 F i g ．2 A F Mi m a g e si n2 Da n d3 Df o rC u 3Nf i l m sg r o w n a tt W Od i f f e r e n tn i t r o g e np a r t i a lp r e s s u r e s 从上述结果来看，随着氮气分压的减小，薄膜 表面颗粒粒径有所增加，表面粗糙度减小．这是由 于减小氮气分压，氩气分压将增大，则溅射气体的 离化率和轰击离子能量会增大，在高能离子的轰击 下，沉积原子有较大的移动能力，这将增强表面扩 散作用，从而表面更加平整． 2 ．3 薄膜的热分析 对在不同氮气分压下制备得到的C u 。N 薄膜 进行退火实验并研究其热稳定性．退火前真空抽至 3 1 0 ～P a ，薄膜样品分别在1 5 0 ，2 0 0 ，2 5 0 和3 0 0 ℃的温度下进行退火处理1h ，退火完成后样品在 真空室中自然冷却至室温．不同的氮气分压所得薄 膜的退火现象几乎一致，图3 示出薄膜样品1 退火 前后的X 射线衍射谱．退火温度低于2 5 0 ℃，没有 出现铜相，C u 。N 1 0 0 和 2 0 0 晶面的衍射峰强随 着温度的升高而减小．当温度达到3 0 0 ℃左右时， 氮化铜相全部转变成铜相．另外，薄膜样品未退火 前的颜色为褐色，经3 0 0 ℃退火后的颜色为淡紫红 色，颜色的改变也说明薄膜已经发生了相变．本实 验研究表明，在温度达到3 0 0 ℃左右时，氮化铜薄 膜就会完全分解成铜膜和氮气． 衍射角／ 。 图3C u a N 薄膜 样品1 在不同温度热 处理后的X R D 谱 F i g ．3 X R D p a t t e r n so ff i l m s s a m p l e1 a f t e r t h e r m a lt r e a t m e n t a td i f f e r e n tt e m p e r a t u r e s 2 ．4 薄膜的光学特性 用紫外一可见分光光度计 3 0 0 ～1 1 0 0n m 测量 薄膜的光学性质．图4 ，5 给出样品1 退火前后的透 射光谱和 矾v 专～h v 的关系曲线 其中a 吸收系 数，加是入射光子的能量 ．利用J ．T a u c 公 式[ 1 4 ] 砒y 专o C b y E o 。。 可以得到薄膜样品1 ，2 ， 3 ，4 的光学带隙E o 。分别为1 ．2 5 ，1 ．2 1 ，1 ．1 6 和 1 ．1 1e V 如表1 所示 ，可以看出E 。。随着氮气分 压的减小而减小．氮化铜薄膜在可见光和近红外波 段 5 0 0 - - 一11 0 0n m 有较高的透过率，而分解后的 铜膜透过率很低，在波长大于9 0 0 n m 波段处，两 图4C u 。N 薄膜 样品1 热处理前后的透射光谱 F i g ．4 T r a n s m i t t a n c ec u r v e so fa s - d e p o s i t e d C u 3 Nf i l m s a m p l e1 a n dC uf i l m ∽山g越寝 万方数据 第2 期袁晓梅等氮气分压对C u a N 薄膜性质的影响2 7 9 3 ．5 f3 ．0 g2 ．5 警2 ．0 荨1 ．5 兮1 ．O 曼0 ．5 O ．O h v ／e V 。 图5c u 3 N 薄膜 样品1 哦v 专与细的关系曲线 F i g ．5T y p i c a lc u r v eo f 曲v T 1v e r s u s ．I l vo ft h eC u 3 Nf i l m s s a m p l e1 者的透过率差值达到5 0 ％以上，这使得氮化铜薄 膜可作为一次性光记录材料． 2 ．5 薄膜表面成分分析 对样品1 进行了X P S 分析，实验结果如图6 和图7 所示． 罂 U 色 萄 瓢 结合能，e V 图6C u 。N 薄膜 样品1 中C u 2 p 的X P S 图谱 F i g ．6 X P Ss p e c t r ao fC u 2 pi nt h eC u 3Nf i l m s a m p l e1 结合舵／e V 图7C u 。N 薄膜 样品1 中N l s 的X P S 图 F i g ．7 X P Ss p e c t r ao fN l si nt h eC u 3Nf i l m s a m p l e1 从图6 中可以看出氮化铜薄膜表面的C u 元 素只以 1 价形式存在，其中C u 2 p 。／z 和C u 2 p 1 ／2 峰 分别位于9 3 2 ．7e V 和9 5 2 ．7e V ，自旋一轨道耦合 裂分能量间距为2 0e V ，此结果比L i u [ 9 3 等的测试 结果偏低．L i u 等研究表明[ 9 ] ，当基底温度由6 0 ℃ 升高到4 0 0 ℃时，C u 2 p 。／2 的峰位从9 3 2 ．8 6e V 变 化到9 3 4 ．6 1e V ．图7 中N l s 能谱上存在明显的 “肩膀”，表明薄膜表面有多种氮的键合存在．通过 高斯拟合后，C u 。N 中的N l s 峰位于3 9 7 ．3e V 和 3 9 9 ．5e V ，而能量较高的4 0 3 ．3e V 处的峰是由D N 键产生的． 3结论 1 采用反应射频磁控溅射法，工作气压1P a ， 基底温度1 5 0 ℃，在玻璃基底上成功制备了具有较 高结晶度的C u 。N 薄膜． 2 氮气和氩气的混合工作气体气氛中，改变 氮气分压对薄膜的择优生长取向有很大的影响，即 随着氮气分压的增大，薄膜由沿C u 。N 1 1 1 晶面 择优生长转变为沿C u 。N 1 0 0 晶面择优生长，晶 粒尺寸减小．薄膜表面致密光滑，纳米颗粒分布均 匀，具有很低的粗糙度． 3 薄膜在真空度为3 1 0 - 3 P a 和温度为3 0 0 ℃的条件下，薄膜完全分解成铜和氮气． 4 薄膜的光学带隙E 。。 1 ．1 1 ～1 ．2 5e V 随 着氮气分压的增大而增大，薄膜退火前后对可见光 和近红外波段相差较大的透过率使得氮化铜薄膜 可作为一次性光记录材料． ， 5 氮化铜薄膜表面的C u 元素只以 1 价形 式存在，C u 2 p 3 ／2 ，C u 2 p l ／2 和N l s 峰分别位于 9 3 2 ．7 ，9 5 2 ．7 和3 9 7 ．3e V ． 参考文献 1 - 1 3M A R U Y A M AT 。M O R I S H I T AT ．C o p p e rn i t r i d e t h i nf i l m sp r e p a r e db yr e d i o - f r e q u e n c yr e a c t i v es p u t 一 。t e r i n g [ J ] ．JA p p lP h y s ，1 9 9 5 ，7 8 6 4 1 0 4 4 1 0 7 ． [ 2 ]A S A N OM ，U M E D AK ，T A S A K IA ．C u 3 Nt h i n f i l mf o ran e wl i g h tr e c o r d i n gm e d i a [ J ] ．J a p a n e s e J o u r n a lA p p l i e dP h y s i c s ，1 9 9 02 9 1 0 1 9 8 5 1 9 8 6 ． [ 3 ] K I MKJ ，K I MJH ，K A N GJH ．S t r u c t u r a la n do p t i c a lc h a r a c t e r i z a t i o no fC u 3Nf i l m sp r e p a r e db yr e a c t i v eR Fm a g n e t r o ns p u t t e r i n g [ J ] ．J o u r n a lo fC r y s t a l G r o w t h ，2 0 0 1 。2 2 2 7 6 7 7 7 2 ． [ 4 ] 赵跃民，王全强。焦红光，等．废弃电路板选择性破 碎基础研究[ J ] ．中国矿业大学学报，2 0 0 5 ，3 4 6 6 8 3 - 6 8 7 ． Z H A oY u e - m i n g ，W A N GQ u a n - q i a n g ，J I A OH o n g - g u a n g ，e ta 1 ．S e l e c t i v i t yc r u s h i n go fd i s c a r d e dp r i n t e d c i r c u i th o a r d s [ J ] ．J o u r n a lo fC h i n aU n i v e r s i t yo f M i n i n g ＆T e c h n o l o g y ，2 0 0 5 ，3 4 6 6 8 3 6 8 7 ． [ 5 ] N O S A K AT ，Y O S H I T A K EM ，O K A M O T OA ，e t a 1 ．C o p p e rn i t r i d et h i nf i l m sp r e p a r e db yr e a c t i v er a d i o - f r e q u e n c ym a g n e t r o ns p u t t e r i n g [ J ] ．T h i nS o l i d F i l m s ，1 9 9 9 ，3 4 8 8 1 3 ． [ 6 ]T E R A D AS ，T A N A K A H ，K U B o T AK ．H e t e r o - e p i t a x i a lg r o w t ho fC u 3Nt h i nf i l m s [ J ] ．J o u r n a lo f C r y s t a lG r o w t h ，1 9 8 9 ，9 4 2 5 6 7 - 5 6 8 ． [ 7 ] W A N GDY ，N A K A M I N EN ，H A Y A S H IY ．P r o p 万方数据 2 8 0中国矿业大学学报第3 7 卷 e r t i e so fv a r i o u ss p u t t e r d e p o s i t e dC u - Nf i l m s [ J ] ．J V a cS c iT e c h n o lA ，1 9 9 8 ，1 6 4 2 0 8 4 2 0 9 2 ． [ 8 ] M A R U Y A M AT ，M O R I S H I T AT ．C o p p e rn i t r i d e a n dt i nn i t r i d et h i nf i l m sf o rw r i t e - o n c eo p t i c a lr e - c o r d i n gm e d i a [ J ] ．A p p l i e dP h y s i c sL e t t e r ，19 9 6 ，6 9 7 8 9 0 - 8 9 1 ． [ 9 ] L I UZQ ，W A N GWJ ，W A N GTM ，e ta 1 ．T h e r m a l s t a b i l i t yo fc o p p e rn i t r i d ef i l m sp r e p a r e db yr fm a g n e t r o ns p u t t e r i n g [ J ] ．T h i nS o l i dF i l m s ，1 9 9 8 ，3 2 5 5 5 5 9 ． [ 1 0 ] N O S A K AT ，Y O S H I T A K EM ，O K A M O T OA ，e t a 1 ．T h e r m a ld e c o m p o s i t i o no fc o p p e rn i t r i d et h i n f i l m sa n dd o t sf o r m a t i o nb ye l e c t r o nb e a nw r i t i n g [ J ] ．A p p l i e dS u r f a c eS c i e n c e ，2 0 0 1 ，1 6 9 ／1 7 0 3 5 8 3 6 1 ． [ 1 1 ] M A Y AL ．C o p p e rn i t r i d et h i nf i l m sp r e p a r e db yd c [ 1 2 ] [ 1 3 ] [ 1 4 ] s p u t t e r i n g [ J ] ．M a t e rR e sS o cS y m pP r o c ，1 9 9 3 ， 2 8 2 2 0 3 ． 吴志国，张伟伟，闫鹏勋，等．纳米C u 。N 薄膜的制 备与性能[ J ] ．物理学报，2 0 0 5 ，5 4 4 ；1 6 8 7 1 6 9 1 ． W UZ h i - g u o ，Z H A N GW e i w e i ，Y A NP e n g - x u n ， e ta 1 ．P r e p a r a t i o na n dp r o p e r t i e so fn a n o - s t r u c t u r e C u 3 Nt h i nf i l m s [ J ] ．A c t aP h y s i c aS i n i c a ，2 0 0 5 ，5 4 4 1 6 8 7 - 1 6 9 1 ． K L U GP ，A L E X A N D E RL ．E E d s ． ，X R a yD i f f r a c t i o nP r o c e d u r e sf o rP o l y c r y s t a l l i n ea n dA m o r - p h o u sM a t e r i a l s S e c o n de d i t i o n [ M ] ．W i l e y ，N e w Y o r k ，1 9 7 4 6 8 7 - 7 8 0 ． T A U CJ ，G R I G o R O V I C IR ，V A N C UA ．A m o r - p h o u sa n dl i g u i ds e m i c o n d u c t o r [ J ] ．P h y sS t a t e S o l ，1 9 6 61 5 6 2 7 ． 责任编辑姚志昌 上接第2 4 5 页 [ 2 ] [ 3 ] [ 4 ] B I A NY i h a i ，H U A N GH o n g - w e i ．M o n i t o r i n ga n d a n a l y s i so fd e e pe x c a v a t i o ni nw h i r l p o o lo fB a o g a n g r o l l i n gm i l l [ J ] ．R o c ka n dS o i lM e c h a n i c s2 0 0 4 ，2 5 S u p p2 4 9 1 - 4 9 5 ． 徐余，刘润．应用断裂强度理论模拟基坑开挖 过程及实测数据分析[ J ] ．岩石力学与工程学报， 2 0 0 4 ，2 3 1 5 2 5 7 3 2 5 7 8 ． X UY U ，L I UR u n ．S i m u l a t i o no nf o u n d a t i o np i te x c a v a t i o nw i t hf r a c t u r es t r e n g t ht h e o r ya n di n t e r p r e t a t i o no fo b s e r v e dd a t a [ J ] ．C h i n e s eJ o u r n a lo fR o c k M e c h a n i c sa n dE n g i n e e r i n g ，2 0 0 4 ，2 3 1 5 2 5 7 3 2 5 7 8 ． 刘建航，侯学渊．基坑工程手册[ M ] ．北京中国建’ 筑工业出版社，1 9 9 7 ． 李永盛．上海博物馆基坑围护结构的受力与变形 [ J ] ．岩土工程学报，1 9 9 6 ，1 8 3 5 5 6 1 ． [ 5 ] [ 6 ] [ 7 ] L IY o n g - s h e n g ．M e c h a n i c a lb e h a v i o u ro ft h es u p p o r t s y s t e mo fs h a n g h a im u s e u mf o u n d a t i o np i t [ J ] ．C h i n e s eJ o u r n a lo fG e o t e c h n i c a lE n g i n e e r i n g 。19 9 6 。l8 3 5 5 - 6 1 ． 黄宏伟，杨新安．某过江管工程顶管工作井开挖监 测分析[ J ] ．工程勘测，1 9 9 7 4 1 2 1 5 ． H U A N GH o n g - w e i ，Y A N GX i n - a n ．M o n i t o r i n ga n d a n a l y s i so faj a c k i n gw o r k i n gw e l le x c a v a t i o ni np a s s i n gr i v e rp r o j e c t [ J ] ．E n g i n e e r i n gR e c o n n a i s s a n c e ， 1 9 9 7 4 1 2 1 5 ． M R o U E HH ，S H A H R o U RI ．Af u l l3 一Df i n i t ea n a l y s i so ft u n n e l i n g - a d j a c e n ts t r u c t u r e si n t e r a c t i o n 口] ．C o m p u t e r sa n dG e o t e c h n i c s ，2 0 0 3 3 0 2 4 5 - 2 5 3 ． 中国建筑科学研究院．建筑基坑支护技术规程I s ] ． 北京中国建筑工业出版社，1 9 9 9 ． 责任编辑王继红 万方数据